Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Improved cut-resistance of Kevlar® using controlled interface reactions during atomic layer deposition of ultrathin (<50 °A) inorganic coatings[†].

Autor: Atanasov, Sarah E., Oldham, Christopher J., Slusarski, Kyle A., Taggart-Scarff, Joshua, Sherman, Shalli A., Senecal, Kris J., Filocamo, Shaun F., McAllister, Quinn P., Wetzel, Eric D., Parsons, Gregory N.

Publikováno v: Journal of Materials Chemistry A; 2014, Vol. 2 Issue 41, p17371-17379, 9p, 1 Color Photograph, 4 Black and White Photographs, 1 Diagram, 1 Chart, 5 Graphs