Zobrazeno 1 - 10 of 17 pro vyhledávání: '"Shamlian, Sarkis H."'
1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
2
Akademický článek
Photocatalytic and Photoelectrocatalytic Degradation of the Explosive RDX by TiO2 Thin Films Prepared by CVD and Anodic Oxidation of Ti.
Autor: Tian, Fang, Hitchman, Michael L., Shamlian, Sarkis H.
Publikováno v: Chemical Vapor Deposition; Jun2012, Vol. 18 Issue 4-6, p112-120, 9p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Considerations of the production of C60 thin films by PECVD, combustion, or pyrolysis.
Autor: Rocabois, Phillippe, Hitchman, Michael L., Shamlian, Sarkis H.
Publikováno v: Chemical Vapor Deposition; Mar1996, Vol. 2 Issue 2, p57-68, 12p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Remote plasma-enhanced chemical vapour deposition of silicon nitride films: the effect of diluting nitrogen with helium.
Autor: Alexandrov, Sergei E., Hitchman, Michael L., Shamlian, Sarkis H.
Publikováno v: Journal of Materials Chemistry; Mar1995, Vol. 5 Issue 3, p457-460, 4p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Bonded hydrogen in silicon nitride films deposited by remote plasma-enhanced chemical vapour deposition.
Autor: Alexandrov, Sergei E., Hitchman, Michael L., Shamlian, Sarkis H.
Publikováno v: Journal of Materials Chemistry; Dec1994, Vol. 4 Issue 12, p1843-1847, 5p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Studies of the effects of NF3 on the growth of polysilicon films by low-pressure CVD. Part 1.―Effect on growth rate.
Autor: Hitchman, Michael L., Zhao, Junfu, Shamlian, Sarkis H.
Publikováno v: Journal of Materials Chemistry; Dec1994, Vol. 4 Issue 12, p1821-1826, 6p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Studies of the effects of NF3 on the growth of polysilicon films by low-pressure CVD. Part 2.―Effect on crystallinity.
Autor: Hitchman, Michael L., Zhao, Junfu, Shamlian, Sarkis H.
Publikováno v: Journal of Materials Chemistry; Dec1994, Vol. 4 Issue 12, p1827-1834, 8p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Metal–organic chemical vapour deposition of YBCO using a new, stable and volatile barium precursor.
Autor: Shamlian, Sarkis H., Hitchman, Michael L., Cook, Stephen L., Richards, Barbara C.
Publikováno v: Journal of Materials Chemistry; Jan1994, Vol. 4 Issue 1, p81-85, 5p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje