Zobrazeno 1 - 10
of 45
pro vyhledávání: '"Severi, Joren"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Mucientes, Marta, Khachaturiants, Artem, Trussell, Robert, Kalinin, Arseniy, Guo, Yan, Simons, Erik C., Kim, Seokhan, Nadyarnykh, Oleg, Moussa, Alain, Bogdanowicz, Janusz, Severi, Joren, Lorusso, Gian, De Simone, Danilo, Charley, Anne-Laure, Leray, Philippe, van Reijzen, Maarten E., Bozdog, Cornel, Sadeghian, Hamed
Publikováno v:
Photomask Japan 2022: XXVIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::133e3163205e108878b907e1576344a0
https://doi.org/10.1117/12.2641698
https://doi.org/10.1117/12.2641698
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Khatchaturiants, Artem, Mucientes, Marta, Kalinin, Arseniy, Guo, Yan, Kim, Seokhan, Moussa, Alain, Bogdanowicz, Janusz, Severi, Joren, Lorusso, Gian F., De Simone, Danilo, Charley, Anne-Laure, Leray, Philippe, van Reijzen, Maarten E., Bozdog, Cornel, Sadeghian, Hamed M.
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::17d04b7f17b85e7710b32ad944974416
https://doi.org/10.1117/12.2616089
https://doi.org/10.1117/12.2616089
Autor:
Lorusso, Gian F., Beral, Christophe, Bogdanowicz, Janusz, De Simone, Danilo, Hasan, Mahmudul, Jehoul, Christiane, Moussa, Alain, Saib, Mohamed, Zidan, Mohamed, Severi, Joren, Truffert, Vincent, Van den Heuvel, Dieter, Goldenshtein, Alex, Houchens, Kevin, Santoro, Gaetano, Fischer, Daniel, Muellender, Angelika, Hung, Joey, Koret, Roy, Turovets, Igor, Ausschnitt, Kit, Mack, Chris A., Kondo, Tsuyoshi, Shohjoh, Tomoyasu, Ikota, Masami, Charley, Anne-Laure, Leray, Philippe
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI
SPIE Advanced Lithography + Patterning
SPIE Advanced Lithography + Patterning
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ae169710f9fc02cc3d8efcee1d03d9fe
https://doi.org/10.1117/12.2614046
https://doi.org/10.1117/12.2614046
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Kim, Ryoung-Han, Lafferty, Neal V., Kim, Minjung, Cerbu, Dorin, Dogru, Selim, Sastry, Kumara, Lorusso, Gian, Zidan, Mohamed, Saib, Mohamed, Severi, Joren, De Simone, Danilo, Singh, Vivek
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; April 2023, Vol. 12495 Issue: 1 p124951D-124951D-7, 1124567p
Autor:
Itani, Toshiro, Naulleau, Patrick P., Gargini, Paolo A., Ronse, Kurt G., Zidan, Mohamed, Dey, Bappaditya, De Simone, Danilo, Severi, Joren, Charley, Anne-Laure, Halder, Sandip, Leray, Philippe, De Gendt, Stefan, Lorusso, Gian Francesco
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; December 2022, Vol. 12292 Issue: 1 p122920I-122920I-13, 12169094p