Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Seung-Woog Lee"'
Publikováno v:
Advances in Resist Technology and Processing XVII.
The bi-layer resist (BLR) process, which first accomplish imaging on a thin top layer and transfer it down to a thick organic layer, is one of newly emerging patterning techniques in silicon processing. In this work, we studied the lithographic perfo
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::263c61380483d8ad826c5a7fcbac547f
https://doi.org/10.1117/12.388368
https://doi.org/10.1117/12.388368
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.