Zobrazeno 1 - 10 of 13 pro vyhledávání: '"Sentoku, Koichi"'
1
Conference
Focus and dose control for high-volume manufacturing of semiconductor.
Autor: Sentoku, Koichi, Ebihara, Takeaki, Ina, Hideki
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2009, Issue 1, p727238-727238-7, 7p
Zobrazit plný text záznamu
2
Conference
Scatterometry based overlay metrology.
Autor: Matsumoto, Takahiro, Ina, Hideki, Sentoku, Koichi, Oishi, Satoru
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2008 Part 2, Issue 1, p69223L-69223L-8, 8p
Zobrazit plný text záznamu
3
Conference
Focus and dose control for high volume manufacturing.
Autor: Ina, Hideki, Sentoku, Koichi
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2008 Part 2, Issue 1, p71400Q-71400Q-7, 7p
Zobrazit plný text záznamu
4
Conference
Focus and dose control to actual process wafer.
Autor: Ina, Hideki, Sentoku, Koichi
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p692212-692212-8, 8p
Zobrazit plný text záznamu
5
Conference
Focus and dose controls, and their application in lithography.
Autor: Ina, Hideki, Sentoku, Koichi, Oishi, Satoru, Miyashita, Tomoyuki, Matsumoto, Takahiro
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2007, Issue 1, p651807-651807-8, 8p
Zobrazit plný text záznamu
6
Conference
Focus and dose measurement method in volume production.
Autor: Ina, Hideki, Oishi, Satoru, Sentoku, Koichi
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2005, Issue 1, p1371-1382, 12p
Zobrazit plný text záznamu
8
Conference
Alignment offset analyzer against wafer-induced shift (WIS).
Autor: Matsumoto, Takahiro, Ina, Hideki, Sentoku, Koichi
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2004, Issue 1, p903-911, 9p
Zobrazit plný text záznamu
9
Conference
New criterion about the topography of W-CMP wafer's alignment mark.
Autor: Ina, Hideki, Matsumoto, Takahiro, Sentoku, Koichi, Matsuyama, Katsuhiro, Katagiri, Kazuhiko
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2003, Issue 1, p445-452, 8p
Zobrazit plný text záznamu
10
Conference
Novel strategy for wafer-induced shift (WIS).
Autor: Sentoku, Koichi, Matsumoto, Takahiro, Ina, Hideki
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2002, Issue 1, p981-989, 9p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje