Zobrazeno 1 - 10 of 27 pro vyhledávání: '"Seaward K"'
1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
2
Akademický článek
An analytical study of etch and etch-stop reactions for GaAs on AlGaAs in CCl2F2 plasma.
Autor: Seaward, K. L., Moll, N. J., Coulman, D. J., Stickle, W. F.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 3/15/1987, Vol. 61 Issue 6, p2358, 7p, 2 Diagrams, 2 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
5
Akademický článek
Role of ions in electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon dioxide.
Autor: Seaward, K. L., Turner, J. E., Nauka, K., Nel, A. M. E.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1995, Vol. 13 Issue 1, p118-124, 7p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Passivation of GaAs surfaces and AlGaAs/GaAs heterojunction bipolar transistors using sulfide solutions and SiNx overlayer.
Autor: Kapila, A., Malhotra, V., Camnitz, L. H., Seaward, K. L., Mars, D.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1995, Vol. 13 Issue 1, p10-14, 5p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
The role of aluminum in selective reactive ion etching of GaAs on AlGaAs.
Autor: Seaward, K. L., Moll, N. J., Stickle, W. F.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1988, Vol. 6 Issue 6, p1645-1649, 5p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Semiconductor damage from inert and molecular gas plasmas.
Autor: Seaward, K. L., Moll, N. J.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1992, Vol. 10 Issue 1, p46-52, 7p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
X-ray and vacuum ultraviolet imaging for electron cyclotron resonance processing plasmas.
Autor: Chew, K. H., Shohet, J. L., Castagna, T. J., Seaward, K. L., Mertz, F. F.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1993, Vol. 11 Issue 4, p1186-1192, 7p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
The synthesis of SiCx films by dual-source sputter deposition.
Autor: Seaward, K. L., Barbee, T. W., Tiller, W. A.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1986, Vol. 4 Issue 1, p31-37, 7p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje