Zobrazeno 1 - 10 of 165 pro vyhledávání: '"Schildbach, M. A."'
1
Conference
Properties of Si/Cs/O nanocluster thin films with negative electron affinity.
Autor: Dinh, L. N., McLean II, W., Schildbach, M. A., Balooch, M.
Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 1999, Vol. 558 Issue 1, p533-543, 11p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
S-p -Toluylmercapturic acid in the urine of workers exposed to toluene: a new biomarker for toluene exposure.
Autor: Angerer, J., Schildbach, M., Krämer, A.
Publikováno v: Archives of Toxicology; Dec1997, Vol. 72 Issue 2, p119-123, 5p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
7
Akademický článek
Measurement and prediction of H2O outgassing kinetics from silica-filled polydimethylsiloxane TR55 and S5370.
Autor: Dinh, L. N., Burnham, A. K., Schildbach, M. A., Smith, R. A., Maxwell, R. S., Balazs, B., McLean II, W.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; May2007, Vol. 25 Issue 3, p597-600, 4p, 1 Diagram, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Akademický článek
Properties of Y2O3 nanocluster films deposited by Cu-vapor laser at room temperature.
Autor: Dinh, L. N., Frischknecht, K. D., Schildbach, M. A., Anklam, T., McLean, W.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1999, Vol. 17 Issue 6, p3397-3400, 4p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje