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pro vyhledávání: '"Sawi, F. H."'
Autor:
Nastasi, M., Paonessa, A., Previtali, E., Quadrivi, E., Sisti, M., Aiello, S., Andronico, G., Antonelli, V., Baldini, W., Bellato, M., Bergnoli, A., Brigatti, A., Brugnera, R., Budano, A., Buscemi, M., Cammi, A., Caruso, R., Chiesa, D., Clementi, C., Corti, D., Costa, S., Corso, F. Dal, Ding, X. F., Dusini, S., Fabbri, A., Fiorentini, G., Ford, R., Formozov, A., Galet, G., Garfagnini, A., Giammarchi, M., Giaz, A., Grassi, M., Isocrate, R., Landini, C., Lippi, I., Lombardi, P., Malyshkin, Y., Mantovani, F., Mari, S. M., Marini, F., Martellini, C., Martini, A., Meroni, E., Mezzetto, M., Miramonti, L., Montini, P., Montuschi, M., Ortica, F., Paoloni, A., Parmeggiano, S., Pelliccia, N., Ranucci, G., Re, A. C., Ricci, B., Romani, A., Saggese, P., Salamanna, G., Sawi, F. H., Serafini, A., Settanta, G., Sirignano, C., Stanco, L., Strati, V., Tuvè, C., Verde, G., Votano, L.
In this work, the $^{222}$Rn contamination mechanisms on acrylic surfaces have been investigated. $^{222}$Rn can represent a significant background source for low-background experiments, and acrylic is a suitable material for detector design thanks t
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1911.04836
Autor:
Nastasi, M., Paonessa, A., Previtali, E., Quadrivi, E., Sisti, M., Aiello, S., Andronico, G., Antonelli, V., Baldini, W., Bellato, M., Bergnoli, A., Brigatti, A., Brugnera, R., Budano, A., Buscemi, M., Cammi, A., Caruso, R., Chiesa, D., Clementi, C., Corti, D., Costa, S., Dal Corso, F., Ding, X. F., Dusini, S., Fabbri, A., Fiorentini, G., Ford, R., Formozov, A., Galet, G., Garfagnini, A., Giammarchi, M., Giaz, A., Marco Grassi, Isocrate, R., Landini, C., Lippi, I., Lombardi, P., Malyshkin, Y., Mantovani, F., Mari, S. M., Marini, F., Martellini, C., Martini, A., Meroni, E., Mezzetto, M., Miramonti, L., Montini, P., Montuschi, M., Ortica, F., Paoloni, A., Parmeggiano, S., Pelliccia, N., Ranucci, G., Re, A. C., Ricci, B., Romani, A., Saggese, P., Salamanna, G., Sawi, F. H., Serafini, A., Settanta, G., Sirignano, C., Stanco, L., Strati, V., Tuvè, C., Verde, G., Votano, L.
Publikováno v:
INSPIRE-HEP
In this work, the $^{222}$Rn contamination mechanisms on acrylic surfaces have been investigated. $^{222}$Rn can represent a significant background source for low-background experiments, and acrylic is a suitable material for detector design thanks t
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::b8f4a2cab38289f497d4d31e9017b8a7
http://inspirehep.net/record/1764368
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