Zobrazeno 1 - 10
of 102
pro vyhledávání: '"Sapp, B."'
Autor:
Foroozani, N., Hobbs, C., Hung, C. C., Olson, S., Ashworth, D., Holland, E., Malloy, M., Kearney, P., O'Brien, B., Bunday, B., DiPaola, D., Advocate, W., Murray, T., Hansen, P., Novak, S., Bennett, S., Rodgers, M., Baker-O'Neal, B., Sapp, B., Barth, E., Hedrick, J., Goldblatt, R., Rao, S. S. Papa, Osborn, K. D.
Publikováno v:
Journal of Quantum Science and Technology, 2019
Qubit information processors are increasing in footprint but currently rely on e-beam lithography for patterning the required Josephson junctions (JJs). Advanced optical lithography is an alternative patterning method, and we report on the developmen
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1902.08501
Autor:
Augur, R., Child, C., Ahn, J.H., Tang, T.J., Clevenger, L., Kioussis, D., Masuda, H., Srivastava, R., Oda, Y., Oguma, H., Quon, R., Kim, B., Sheng, H., Hirooka, S., Gupta, R., Thomas, A., Singh, S.M., Fang, Q., Schiwon, R., Hamieh, B., Wornyo, E., Allen, S., Kaltalioglu, E., Ribes, G., Zhang, G., Fryxell, T., Ogino, A., Shimada, E., Aizawa, H., Minda, H., Kim, S.O., Oki, T., Fujii, K., Pallachalil, M., Takewaki, T., Hu, C.K., Sundlof, B., Permana, D., Bolom, T., Engel, B., Labelle, C., Sapp, B., Nogami, T., Simon, A., Shobha, H., Gates, S., Ryan, E.T., Bonilla, G., Daubenspeck, T., Shaw, T., Osborne, G., Grill, A., Edelstein, D., Restaino, D., Molis, S., Spooner, T., Ferreira, P., Biery, G., Sampson, R.
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering April 2012 92:42-44
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Loh, W.-Y., Lee, R. T.P., Tieckelmann, R., Orzali, T., Sapp, B., Hobbs, C., Rao, S.S. Papa, Fuse, K., Sato, M., Fujiwara, N., Chang, L., Uchida, H.
Publikováno v:
2015 26th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC); 2015, p451-454, 4p
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
2013 IEEE 63rd Electronic Components & Technology Conference; 2013, p1133-1140, 8p
Autor:
Hummler, K., Sapp, B., Lloyd, J. R., Kruger, S., Olson, S., Park, S B, Murray, B., Jung, D., Cain, S., Park, A., Ferrone, D., Ali, I.
Publikováno v:
2013 IEEE 63rd Electronic Components & Technology Conference; 2013, p41-48, 8p
Publikováno v:
2011 IEEE Conference on Computer Vision & Pattern Recognition (CVPR); 2011, p1281-1288, 8p