Zobrazeno 1 - 10 of 23 pro vyhledávání: '"Saitoh, Yasunao"'
1
Conference
Repairing Ta absorber x-ray masks with gas-assisted focused-ion-beam etching.
Autor: Okada, Ikuo, Saitoh, Yasunao, Hamashima, Makoto, Sekimoto, Misao, Matsuda, Tadahito
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov1997, Issue 1, p269-274, 6p
Zobrazit plný text záznamu
2
Conference
Enhanced defect inspection method for x-ray masks.
Autor: Sekimoto, Misao, Okada, Ikuo, Saitoh, Yasunao, Matsuda, Tadahito
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov1996, Issue 1, p348-359, 12p
Zobrazit plný text záznamu
3
Conference
Cleaning process for x-ray masks.
Autor: Saitoh, Yasunao, Ohkubo, Takashi, Okada, Ikuo, Sekimoto, Misao, Matsuda, Tadahito
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov1996, Issue 1, p198-203, 6p
Zobrazit plný text záznamu
4
Conference
Approach to fabricating defect-free x-ray masks.
Autor: Okada, Ikuo, Ohkubo, Takashi, Saitoh, Yasunao, Sekimoto, Misao, Matsuda, Tadahito
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov1995, Issue 1, p253-263, 11p
Zobrazit plný text záznamu
5
Conference
Repairing x-ray masks with Ta absorbers using focused ion beams.
Autor: Okada, Ikuo, Saitoh, Yasunao, Ohkubo, Takashi, Sekimoto, Misao, Matsuda, Tadahito
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov1995, Issue 1, p172-177, 6p
Zobrazit plný text záznamu
6
Conference
Printability of organic defects on an x-ray mask.
Autor: Saitoh, Yasunao, Okada, Ikuo, Sekimoto, Misao, Ohkubo, Takashi, Matsuda, Tadahito
Publikováno v: Proceedings of SPIE; 11/ 1/1994, Issue 1, p114-121, 8p
Zobrazit plný text záznamu
7
Conference
X-ray mirrors for SR lithography (Invited Paper).
Autor: Kaneko, Takashi, Itabashi, Sei-ichi, Saitoh, Yasunao, Okada, Ikuo, Yoshihara, Hideo
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov1992, Issue 1, p238-245, 8p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
X-ray spectra in a gas puff plasma x-ray source for x-ray lithography.
Autor: Itabashi, Seiichi, Okada, Ikuo, Saitoh, Yasunao, Yoshihara, Hideo
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1989, Vol. 7 Issue 4, p633-639, 7p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Submicron pattern replication using a high contrast mask and two-layer resist in x-ray lithography.
Autor: Saitoh, Yasunao, Yoshihara, Hideo, Watanabe, Iwao, Nakayama, Satoshi
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1984, Vol. 2 Issue 1, p63-67, 5p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
High efficiency beamline for synchrotron radiation lithography.
Autor: Kaneko, Takashi, Saitoh, Yasunao, Itabashi, Seiichi, Yoshihara, Hideo
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1991, Vol. 9 Issue 6, p3214-3217, 4p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje