Zobrazeno 1 - 10
of 45
pro vyhledávání: '"S. Yoffe"'
Autor:
Min Sup Hur, Teyoun Kang, Moses Chung, Dongsu Ryu, S. Yoffe, B. Ersfeld, Dino A. Jaroszynski, Hyyong Suk
Publikováno v:
2020 IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS).
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ec43930f7fca5195bff0c6745c2024fd
https://doi.org/10.1109/icops37625.2020.9717693
https://doi.org/10.1109/icops37625.2020.9717693
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
New Journal of Physics, Vol 17, Iss 10, p 103026 (2015)
Raman backscattering (RBS) in plasma is the basis of plasma-based amplifiers and is important in laser-driven fusion experiments. We show that saturation can arise from nonlinearities due to coupling between the fundamental and harmonic plasma wave m
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/09516ffdcebb41f79cd95d8ec4bce9bf
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of microscopy. 194(Pt)
We present a high-resolution near-field optical tool designed for repair of opaque defects in binary photomasks. Both instrument design and near-field imaging and patterning results will be presented. Designed for ablative processing of thin metal fi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::66def38186e7c6f85827eddce34dd769
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/11388302
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/11388302