Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"S. Sonchik"'
Autor:
W. Smith, Klaus Meissner, S. Sonchik, S. Silverman, Harald Bohlen, U. Behringer, Werner Zapka, W. Haug, W. Ziemlich
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 13:357-360
Mix-and-match lithography between Electron Proximity Printing (EBP) and optical lithography was demonstrated in processing nine levels of a 1Mbit device up to first metallization. High overlay accuracy was achieved. For the first time we produced a l
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fc2d8f2fd00f1193c89e1ccd0657342b
https://doi.org/10.1016/0167-9317(91)90111-p
https://doi.org/10.1016/0167-9317(91)90111-p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 7:1443
Electron‐beam proximity printing (EBP), a lithographic shadow projection method, has demonstrated the capability to print structures with dimensions below 0.5 μm, to achieve level‐to‐level overlay better than 50 nm (1σ) and to perform with ve
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cd58c4737807991f5c80b75adb4116ba
https://doi.org/10.1116/1.584553
https://doi.org/10.1116/1.584553
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.