Zobrazeno 1 - 10
of 308
pro vyhledávání: '"S. Battiston"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
S. Fiameni, S. Battiston, A. Famengo, Stefano Boldrini, F. Montagner, C. Fanciulli, Monica Fabrizio, Alberto Ferrario, Filippo Agresti
Publikováno v:
Journal of alloys and compounds 792 (2019): 953–959. doi:10.1016/j.jallcom.2019.04.116
info:cnr-pdr/source/autori:Battiston S.; Montagner F.; Fiameni S.; Famengo A.; Boldrini S.; Ferrario A.; Fanciulli C.; Agresti F.; Fabrizio M./titolo:AlTiN based thin films for degradation protection of tetrahedrite thermoelectric material/doi:10.1016%2Fj.jallcom.2019.04.116/rivista:Journal of alloys and compounds/anno:2019/pagina_da:953/pagina_a:959/intervallo_pagine:953–959/volume:792
info:cnr-pdr/source/autori:Battiston S.; Montagner F.; Fiameni S.; Famengo A.; Boldrini S.; Ferrario A.; Fanciulli C.; Agresti F.; Fabrizio M./titolo:AlTiN based thin films for degradation protection of tetrahedrite thermoelectric material/doi:10.1016%2Fj.jallcom.2019.04.116/rivista:Journal of alloys and compounds/anno:2019/pagina_da:953/pagina_a:959/intervallo_pagine:953–959/volume:792
Efficient protection against degradation process of tetrahedrite-based thermoelectric materials was obtained employing AlTiN based thin films. The coatings were deposited via reactive direct current physical vapour deposition magnetron sputtering. Th