Zobrazeno 1 - 10
of 16
pro vyhledávání: '"S. Awamat"'
Publikováno v:
High Temperature Material Processes (An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes). 13:381-398
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9d464663a143bdd819cc045b6dc63467
https://doi.org/10.1615/hightempmatproc.v13.i3-4.110
https://doi.org/10.1615/hightempmatproc.v13.i3-4.110
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 203:442-448
A low pressure plasma process has been developed which enables deposition of oxide layers from micro droplets introduced into a reactor. With this process, up to 50 μm thick porous yttria-stabilized zirconia (YSZ) coatings have been deposited. Zirco
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1bff2b10f0f3990d3cf01c3791351ea9
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2008.08.065
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2008.08.065
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 202:1226-1230
A low pressure plasma process was used in the laboratory to synthesize very pure Sr-doped LaMnO 3 porous layers, which could be used as a SOFC cathode. Recent experimental work allowed to adapt the process to synthesize both the YSZ dense electrolyte
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cbcd84ec27ed42af09827944dcde39b4
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.07.089
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.07.089
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 202:714-718
The ceramic layer of a thermal barrier coating is usually deposited by plasma spraying or by EBPVD (Electron Beam Physical Vapour Deposition). To explore the potential of new oxide compositions in view of thermal barrier coating applications, these d
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::729a1263a19a0928489130f0786af62d
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.08.026
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.08.026
Publikováno v:
Journal of Physics D: Applied Physics. 40:1030-1036
Results of the treatment of multi-crystalline silicon with low-pressure inductive plasma are presented. Plasma treatment was found to increase silicon electrical conductivity to a greater value relative to its initial state; the time to reach this ma
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::42774cc523ad5eb730565c376fd98e3f
https://doi.org/10.1088/0022-3727/40/4/017
https://doi.org/10.1088/0022-3727/40/4/017
Publikováno v:
High Temperature Material Processes (An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes). 11:297-308
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4b2b33acd388e0d62223127cfdfe036f
https://doi.org/10.1615/hightempmatproc.v11.i2.120
https://doi.org/10.1615/hightempmatproc.v11.i2.120
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.