Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"S. Alafakis"'
Autor:
V. Ioannou-Sougleridis, S. Alafakis, B. Pécz, D. Velessiotis, N. Z. Vouroutzis, S. Ladas, M. Barozzi, G. Pepponi, D. Skarlatos
Publikováno v:
ECS Journal of Solid State Science and Technology. 11:045006
In this work, the combined effect of negative tone photolithography and post-metallization annealing (PMA) on the electrical behavior of Al/Al2O3/p-Ge MOS structures are investigated. During photoresist development, the exposed upper part of the Al2O
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::710d1e739c4d58f80582a58644732d3a
https://doi.org/10.1149/2162-8777/ac62f2
https://doi.org/10.1149/2162-8777/ac62f2
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.