Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"S Bijawat"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 5:587-595
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::013e6a1214928c9c308391274d9714d9
https://doi.org/10.1016/0167-9317(86)90094-8
https://doi.org/10.1016/0167-9317(86)90094-8
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
A practical approach for submicron lithography is mix and match imaging using x-ray and optical steppers. The advantages of x-ray lithography are primarily submicron resolution, unlimited depth of focus and insensitivity to substrate topology and com
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b85a512fea84f24bdcf0e701fb7cba7d
https://doi.org/10.1117/12.940427
https://doi.org/10.1117/12.940427
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.