Zobrazeno 1 - 10
of 428
pro vyhledávání: '"S, Honari"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Here we demonstrate that adding a chemo-mechanical polishing (CMP) procedure to conventional photolithography, a silica microdisk with ultra-high quality factors ($>10^8$) can be fabricated. By comparing with the intrinsic optical quality factor (Q)
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::276da0b3c51b9151354cf181f66e85aa
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Ahmed Khan, Nabeel1 (AUTHOR), Ahmed Alarfaj, Aisha2 (AUTHOR), Alabdulqader, Ebtisam Abdullah3 (AUTHOR), Zamzami, Nuha4 (AUTHOR), Umer, Muhammad5 (AUTHOR), Innab, Nisreen6 (AUTHOR) Ninnab@um.edu.sa, Kim, Tai-Hoon7 (AUTHOR) Ninnab@um.edu.sa
Publikováno v:
PLoS ONE. 12/5/2024, Vol. 19 Issue 12, p1-20. 20p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.