Characterization studies of low pressure chemical vapour deposition SICARB layers for wide band gap emitters

Autor: Pickering, C., Cullis, A.G., Barnett, S.J., Moynagh, P.B., Wensley, P., Rosser, P.J.

Publikováno v: Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology; January 1992, Vol. 11 Issue: 1-4 p131-137, 7p

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Carbon Doped Silicon Emitters Fabricated Using Limited Reaction Processing.

Autor: Ruddell, F.H., Armstrong, B.M., Gamble, H.S., Affolter, K.B., Moynagh, P.B., Rosser, P.J.

Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 01/19/1990, Vol. 198, pN.PAG-1, 1p

Boron Redistribution During Transient Thermal Metal Silicide Growth on Si.

Autor: Sofield, C.J., Harper, R.E., Rosser, P.J.

Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 01/04/1984, Vol. 35, pN.PAG-1, 1p

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.