Zobrazeno 1 - 10
of 21
pro vyhledávání: '"Rondanini, M."'
Publikováno v:
In Surface & Coatings Technology 2007 201(22):8863-8867
Publikováno v:
In Surface & Coatings Technology 2007 201(22):8884-8887
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Novikov, P., Donne, A., Cereda, S., Miglio, L., Pizzini, S., Binetti, S., Rondanini, M., Cavallotti, C., Chrastina, D., Moiseev, T., Känel, H., Isella, G., Montalenti, F.
Publikováno v:
Optoelectronics Instrumentation & Data Processing; Aug2009, Vol. 45 Issue 4, p322-327, 6p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 201:8863-8867
Silicon is a promising material for solar cells and optical devices. Among the different growth techniques, Plasma Enhanced CVD (PECVD) attracts particular interest allowing to obtain high quality deposition at significant rates and low substrate tem
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ec0f19f0e55025ac705074accebada26
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.04.104
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.04.104
Autor:
A. Le Donne, Tamara Moiseev, Daniel Chrastina, Sergio Pizzini, S. Cereda, P. L. Novikov, Francesco Montalenti, Simona Binetti, Leo Miglio, M. Rondanini, H. von Känel, Giovanni Isella, Carlo Cavallotti
A joint theoretical and experimental analysis of the crystalline fraction in nanocrystalline films grown by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition is presented. The effect of key growth parameters such as temperature, silane flux, and h
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::a30fa8506cdf7db833487b1df06a2758
http://hdl.handle.net/11311/566058
http://hdl.handle.net/11311/566058
