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pro vyhledávání: '"Rolf Krüger-Sehm"'
Autor:
Thomas Krah, Friedel Koerfer, Stephanus Büttgenbach, Jürgen Fleischer, Benjamin Viering, Peter Bakucz, Thomas Wiedenhöfer, Robert Schmitt, Albert Weckenmann, Rolf Krüger-Sehm, Axel Kranzmann, Ivesa Buchholz, Martin Ritter
Publikováno v:
teme. 75:288-297
Im Bereich der Mikrometer- und Nanometer-Messtechnik werden immer neue Normale benötigt und bereitgestellt. Bei deren Design, Herstellung und Einsatz werden zum Teil neue Wege beschritten, um den Anforderungen und Randbedingungen der Mikro- und Nano
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f4be950cd3c9864cdb86f8af7b63afb7
https://doi.org/10.1524/teme.2008.0871
https://doi.org/10.1524/teme.2008.0871
Autor:
Sven Simon, Ludger Koenders, Oliver Sawodny, Carsten Bellon, Martin Rabold, L. Rockstroh, Peter Woias, Friedel Koerfer, Andreas Tausendfreund, Thorsten Dziomba, Stefan Patzelt, Robert Schmitt, Jan Zimmermann, Gert Goch, Min Xu, Andreas Staude, Rolf Krüger-Sehm, Frank Goldschmidtböing
Publikováno v:
teme. 75:298-310
Die Mikro- und Nanotechnologie gehört zu den Schlüsseltechnologien des 21. Jahrhunderts mit hohen Wachstumsprognosen, wie auch die im Auftrag des BMBF durchgeführte Studie “Nanotechnologie als wirtschaftlicher Wachstumsmarkt” von 2004 ausführ
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0388a4e9794b65e634c70dd5d91be97f
https://doi.org/10.1524/teme.2008.0872
https://doi.org/10.1524/teme.2008.0872
Publikováno v:
teme. 75:339-345
Streulichtbasierte Messverfahren eignen sich prinzipiell sehr gut zur anwendungsnahen Charakterisierung von Oberflächen-Nanostrukturen. Kenngrößen wie die rms-Rauheit oder das Rauheitsspektrum lassen sich direkt bestimmen. Speziell bei der Anwendu
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1d6b3f5df15ec05b24d1a1f4e5d5e3c8
https://doi.org/10.1524/teme.2008.0876
https://doi.org/10.1524/teme.2008.0876
Publikováno v:
Wear. 264:439-443
For the characterisation of a surface the spatial short wavelength cutoff of the measuring instrument is an important parameter that has to be known, especially when different techniques are to be compared. The definition of the transfer characterist
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9634eac6ad40d266fe96eb911a6607d8
https://doi.org/10.1016/j.wear.2006.08.038
https://doi.org/10.1016/j.wear.2006.08.038
Publikováno v:
tm - Technisches Messen. 74:572-576
In diesem Beitrag wird ein „Chirp”-Oberflächennormal vorgestellt. Es ist dafür vorgesehen, mit einer Serie von verschiedenen Ortsfrequenzen das Übertragungsverhalten von Oberflächenmessgeräten zu testen. Die Topografie des Normals enthält e
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::62944ace7b1ae787d0973870fe210a85
https://doi.org/10.1524/teme.2007.74.11.572
https://doi.org/10.1524/teme.2007.74.11.572
Autor:
Jörg Seewig, Rolf Krüger-Sehm
Publikováno v:
tm - Technisches Messen. 74:529-537
Es wird ein Modell vorgestellt, das die Unsicherheitsquellen vom Antastvorgang bis zur Berechnung einzelner Rauheitskenngrößen beschreibt. Dabei soll verdeutlicht werden, wie sich in Abhängigkeit vom Grad der Kenntnis der Unsicherheitsquellen die
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6a8e9730d134f7c55cc5760175cca97a
https://doi.org/10.1524/teme.2007.74.10.529
https://doi.org/10.1524/teme.2007.74.10.529
Publikováno v:
Journal of Physics: Conference Series. 13:236-239
A method for calibrating stylus profilometers on the basis of metrological scanning force microscopes (SFMs) is proposed. Two kinds of such calibrations are presented. First, step height standards set (feature height from 7 nm up to 1000 nm), calibra
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f76faaabf2d66a73d6da4e326f976ed3
https://doi.org/10.1088/1742-6596/13/1/055
https://doi.org/10.1088/1742-6596/13/1/055
Publikováno v:
Wear. 257:1241-1245
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b4d363b964a6fc17fac8eba72bdf749e
https://doi.org/10.1016/j.wear.2004.03.047
https://doi.org/10.1016/j.wear.2004.03.047
Autor:
Frank Pohlenz, Rolf Krüger-Sehm, Klaus Hasche, Hans-Ulrich Danzebrink, Giinter Wilkening, Lena Jung, Gaoliang Dai
Publikováno v:
Measurement Science and Technology. 15:2039-2046
A new method for traceable measurement of micro-roughness by using a newly developed metrological large range scanning force microscope (LR-SFM) is described. The LR-SFM has an Abbe error free design and direct interferometric position measurement ca
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ba6b0dd222556472e6152d1ffcc2c3bc
https://doi.org/10.1088/0957-0233/15/10/013
https://doi.org/10.1088/0957-0233/15/10/013
Publikováno v:
Review of Scientific Instruments. 75:1120-1126
A compact sensor head combining optical interference and scanning probe microscopy in a single instrument has been developed. This instrument is able to perform complementary quantitative measurements, combining fast nondestructive three-dimensional
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e72d2c1cd7026fbe4c4cff4394149a2f
https://doi.org/10.1063/1.1687045
https://doi.org/10.1063/1.1687045