Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Rod Rozman"'
Autor:
Katie Nguyen, Yasuhiro Takashima, Chris Haid, Martin Szwarc, Vikram Mehta, Owen W. Jungroth, Andy Sendrowski, Hiroyuki Yokoyama, Satoru Tamada, Raymond W. Zeng, Bharat M. Pathak, Matthew Goldman, Tetsuji Manabe, Darshak Udeshi, Ravinder Kajley, Navneet Chalagalla, Tom Ryan, Daniel Elmhurst, Toru Tanzawa, Takaaki Ichikawa, William Sheung, Atif Huq, Mase J. Taub, Joel T. Jorgensen, Yoko Oikawa, Nishant Kajla, Midori Morooka, Tomoharu Tanaka, Koichi Kawai, Jiro Kishimoto, Dan Chu, Shigekazu Yamada, Rod Rozman, Ali Madraswala
Publikováno v:
ISSCC
As applications for NAND continue to grow and cost remains a primary market driver, it is necessary to deliver increased storage capacities at smaller process lithography while meeting high performance requirements [1,2]. Design plays a pivotal role
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.