Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Robert M. Sills"'
Autor:
Henry Chris Hamaker, Jeffrey K. Varner, Keith P. Standiford, Robert M. Sills, Jerry Martyniuk
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Two of the key performance parameters in the manufacture of photomasks and reticles are composite placement and composite overlay. Multipoint fitting of the placement and overlay errors is typically used in specifying the performance of the printing
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a1689e2b02ec4d440869d701a2f8288d
https://doi.org/10.1117/12.262820
https://doi.org/10.1117/12.262820
Autor:
Robert M. Sills, Rudolf M. Weiss
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Proximity correction schemes as used in electron beam lithography require the determination of electron scattering within the exposed resist and underlying substrate material. Scattering of an electron beam in a solid can be described by a double Gau
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e1c173758a58aa8ea016fd94cdfb8516
https://doi.org/10.1117/12.47356
https://doi.org/10.1117/12.47356
Autor:
Jorge L. Freyer, Robert M. Sills
Publikováno v:
Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Technology for Submicrometer Lithographies V.
As lithographic requirements drive minimum feature dimensions into the 0.5-micron range, the use of conventional optical tools gives way to other, less conventional methods during the pattern processing. The most serious contenders in a production en
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3429416a701162ea744d5714a27fd380
https://doi.org/10.1117/12.963663
https://doi.org/10.1117/12.963663
Periodical
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.