Zobrazeno 1 - 10
of 16
pro vyhledávání: '"Richard L. Bersin"'
Autor:
Richard L. Bersin
Publikováno v:
ACS Symposium Series ISBN: 9780841236776
Green Engineering
Green Engineering
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b5f7f67f44aad8150eab6d82cfe2bfa0
https://doi.org/10.1021/bk-2001-0766.ch004
https://doi.org/10.1021/bk-2001-0766.ch004
Autor:
Richard L. Bersin
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
A multi-process chamber has been developed for ashing of photoresist. Using microwave downstream and RIE processing, ashing processes have been developed which result in residues soluble in DI water, bypassing the need for solvent or acid treatment.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::945de6cb35fd2f136945fbc9e237ce5f
https://doi.org/10.1117/12.142930
https://doi.org/10.1117/12.142930
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of the Air Pollution Control Association. 12:129-146
A proposed method for monitoring atmospheric sulfur dioxide is discussed. Krypton-85 is used as an inverse radioactive tracer. It is postulated that the method may be developed into a simple, portable, and relatively inexpensive monitor adaptable to
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::5cae40e6273bad3806ed27691921eba1
https://doi.org/10.1080/00022470.1962.10468056
https://doi.org/10.1080/00022470.1962.10468056
Autor:
Richard L. Bersin
Publikováno v:
Nuclear Science and Engineering. 23:21-27
This study was undertaken to evaluate radiometric techniques for sensing atomic hydrogen in trace quantities at low pressure, for possible application to satellite measurements. A reaction utilizin...
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cd942f879a6fadd10d9d7913b5d9b7d8
https://doi.org/10.13182/nse65-a19255
https://doi.org/10.13182/nse65-a19255
Autor:
PAUL T. ANASTAS, LAUREN G. HEINE, TRACY C. WILLIAMSON, H. Dong, J. W. Gooch, G. W. Poehlein, S. T. Wang, X. Wu, F. J. Schork, David E. Nikles, Matthew M. Ellison, Jin Young Huh, James P. Parakka, Adam Power, Richard L. Bersin, H. H. Lou, Y. L. Huang, Y. E. David Li, Joseph E. Paganessi, Denis Rufin, D. Hâncu, C. Powell, E. J. Beckman, Bala Subramaniam, Said Saim, Roger Rajewski, Valentino J. Stella, Terry Hobbs, Alan J. Lesser, Roger Jones, Steven S. C. Chuang, Pisanu Toochinda, Mahesh V. Konduru, Robert J. Farrauto, B. K. Marcus, W. E. Cormier, Maria Flytzani-Stephanopoulos, Tianli Zhu, Fabio H. Ribeiro, Gabor A. Somorjai, Scott K. Spear, Ann E. Visser, Heather D. Willauer, Richard P. Swatloski, Scott T. Griffin, Jonathan G. Huddleston, Robin D. Rogers, Teresa M. Harten, Leland M. Vane, David Szlag
Autor:
Barry Gelernt, Richard L. Bersin
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
As the Semiconductor industry moves toward 1 micron and submicron lithography, it is critical that anisotropic dry-etching reproduce the pattern linewidth control of the lithographic tools generating the patterns. The strength of custom processing in
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4731a2ab675b5cafa436823d62910561
https://doi.org/10.1117/12.933573
https://doi.org/10.1117/12.933573
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Periodical
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.