Zobrazeno 1 - 10 of 117 pro vyhledávání: '"Rhinow, Daniel"'
1
Report
Energy-filtered transmission electron microscopy of biological samples on highly transparent carbon nanomembranes
Autor: Rhinow, Daniel, Büenfeld, Matthias, Weber, Nils-Eike, Beyer, André, Gölzhäuser, Armin, Kühlbrandt, Werner, Hampp, Norbert, Turchanin, Andrey
Publikováno v: Ultramicroscopy 111 (2011) 342-349
Ultrathin carbon nanomembranes (CNM) comprising crosslinked biphenyl precursors have been tested as support films for energy-filtered transmission electron microscopy (EFTEM) of biological specimens. Due to their high transparency CNM are ideal subst
Externí odkaz: http://arxiv.org/abs/1110.1244
Zobrazit plný text záznamu
2
Report
Single-walled carbon nanotubes and nanocrystalline graphene reduce beam-induced movements in high-resolution electron cryo-microscopy of ice-embedded biological samples
Autor: Rhinow, Daniel, Weber, Nils-Eike, Turchanin, Andrey, Gölzhäuser, Armin, Kühlbrandt, Werner
Publikováno v: Appl. Phys. Lett. 99, 133701 (2011)
For single particle electron cryo-microscopy (cryoEM), contrast loss due to beam-induced charging and specimen movement is a serious problem, as the thin films of vitreous ice spanning the holes of a holey carbon film are particularly susceptible to
Externí odkaz: http://arxiv.org/abs/1110.1235
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Akademický článek
Electron beam-induced etching of SiO2, Si3N4, and poly-Si assisted by CF4/O2 remote plasma.
Autor: Lin, Kang-Yi, Preischl, Christian, Hermanns, Christian Felix, Rhinow, Daniel, Solowan, Hans-Michael, Budach, Michael, Marbach, Hubertus, Edinger, Klaus, Oehrlein, G. S.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; Jan2023, Vol. 41 Issue 1, p1-12, 12p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
SiO2 etching and surface evolution using combined exposure to CF4/O2 remote plasma and electron beam.
Autor: Lin, Kang-Yi, Preischl, Christian, Hermanns, Christian Felix, Rhinow, Daniel, Solowan, Hans-Michael, Budach, Michael, Edinger, Klaus, Oehrlein, G. S.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; Dec2022, Vol. 40 Issue 6, p1-17, 17p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje