Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Relaxation non-Debye type process"'
Autor:
K. M. Zhidel, A. V. Pavlenko
Publikováno v:
Journal of Advanced Dielectrics, Vol 12, Iss 01 (2022)
In this paper, we report the successful growth of 0.5BiFeO3–0.5[Formula: see text][Formula: see text]O3/SrTiO3/Si(001) heterostructure using RF-cathode sputtering in an oxygen atmosphere. The deposited films have been investigated by X-ray diffract
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/438045b2c32c48e0b537ffac0dafec55
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Zhidel, K. M., Pavlenko, A. V.
Publikováno v:
Journal of Advanced Dielectrics; Feb2022, Vol. 12 Issue 1, p1-5, 5p