Zobrazeno 1 - 10
of 67
pro vyhledávání: '"Reactive HiPIMS"'
Autor:
Teodora Matei, Vasile Tiron, Roxana Jijie, Georgiana Bulai, Ioana-Laura Velicu, Daniel Cristea, Valentin Crăciun
Publikováno v:
Frontiers in Chemistry, Vol 11 (2023)
In the global context of climate change and carbon neutrality, this work proposes a strategy to improve the light absorption of photocatalytic water-splitting materials into the visible spectrum by anion doping. In this framework, reactive high power
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/fd69c91434d74be8a1b5dfc5ca7e64a5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Plasma Emission Monitoring-based Control Method for Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering
Autor:
Törngren, Jacob
Thins films play a critical role in many technical fields today, such as optics, semiconductor, and tool manufacturing. A widely used method for thin film deposition is magnetron sputtering, with Direct-Current Magnetron Sputtering (DCMS) being the m
Externí odkaz:
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:ltu:diva-108197
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Caroline Hain, Peter Schweizer, Patrick Sturm, Aurelio Borzì, Jonathan E. Thomet, Johann Michler, Aïcha Hessler-Wyser, Thomas Nelis
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 454:129188
This work focuses on the low temperature fabrication process of InN thin films via microwave plasma-assisted reactive high power impulse magnetron sputtering (MAR-HiPIMS). The influence of microwave plasma on the HiPIMS discharge process at various n
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::8f6611ef59b36a5812c5ea21cc5fab1a
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.129188
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.129188
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Catalysts; Volume 11; Issue 11; Pages: 1416
Catalysts, Vol 11, Iss 1416, p 1416 (2021)
Catalysts, Vol 11, Iss 1416, p 1416 (2021)
A pure Ti target in Ar/O2 gas mixture was used to synthesize Ti3Ox thin film on a glass substrate by Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) under different sputtering power (2 and 2.5 kW). The influence of HiPIMS parameters on thin
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::484f13f2ac328988b6fa6f408967750b