Zobrazeno 1 - 8 of 8 pro vyhledávání: '"Rathbun, L. C."'
1
Akademický článek
Ion-induced chlorination of titanium leading to enhanced etching.
Autor: O’Brien, W. L., Rhodin, T. N., Rathbun, L. C.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; 10/15/1988, Vol. 89 Issue 8, p5264, 9p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
A critical discussion of emission mechanisms and reaction rates for the ion-assisted etching of GaAs(100).
Autor: O’Brien, W. L., Paulsen-Boaz, C. M., Rhodin, T. N., Rathbun, L. C.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 12/1/1988, Vol. 64 Issue 11, p6523, 7p, 4 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Electron-beam lithography and chemically assisted ion beam etching for the fabrication of grating surface-emitting broad-area AlGaAs lasers.
Autor: Tiberio, R. C., Porkolab, G. A., Johnson, J. E., Grande, W. J., Rathbun, L. C., Wolf, E. D., Craighead, H. G., Lang, R. J., Larsson, A., Forouhar, S., Cody, J.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1990, Vol. 8 Issue 6, p1408-1411, 4p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Chemically enhanced ion etching on refractory metal silicides.
Autor: O'Brien, W. L., Rhodin, T. N., Rathbun, L. C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1988, Vol. 6 Issue 3, p1384-1387, 4p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Halide formation and etching of Cu thin films with Cl2 and Br2.
Autor: Park, Seongju, Rhodin, T. N., Rathbun, L. C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1986, Vol. 4 Issue 2, p168-172, 5p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Effect of inert ion bombardment on chemisorption and etching of aluminum films in Cl2, Br2, CCl4, and CBr4.
Autor: Park, Seongju, Rathbun, L. C., Rhodin, T. N.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1985, Vol. 3 Issue 3, p791-794, 4p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
New technique and analysis of accelerated electromigration life testing in multilevel metallizations.
Autor: Muray, L. P., Rathbun, L. C., Wolf, E. D.
Publikováno v: Applied Physics Letters; 10/10/1988, Vol. 53 Issue 15, p1414, 3p
Zobrazit plný text záznamu
8
Conference
Mechanisms in the Ion-Assisted Etching of TiSi2.
Autor: O'Brien, W. L., Rhodin, T. N., Rathbun, L. C.
Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 02/01/1988, Vol. 131, pN.PAG-1, 1p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje