Zobrazeno 1 - 10
of 32
pro vyhledávání: '"Rao, Ashwath"'
Publikováno v:
In Journal of Energy Storage August 2021 40
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Effect of nitrogen containing plasma on interface properties of sputtered ZrO2 thin films on silicon
Publikováno v:
In Materials Science in Semiconductor Processing March 2014 19:145-149
Publikováno v:
In Materials Science in Semiconductor Processing December 2013 16(6):1603-1607
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Rao, Ashwath1 (AUTHOR) ashu1280@rediffmail.com, Chaurasia, Priyanka1 (AUTHOR), Singh, B. R.1 (AUTHOR)
Publikováno v:
Radiation Effects & Defects in Solids: Incorporating Plasma Techniques & Plasma Phenomena. Mar-Apr2016, Vol. 171 Issue 3/4, p187-201. 15p.
Autor:
Rao, Ashwath1 (AUTHOR) ashu1280@rediffmail.com, Verma, Ankita1 (AUTHOR), Singh, B.R.1 (AUTHOR)
Publikováno v:
Radiation Effects & Defects in Solids: Incorporating Plasma Techniques & Plasma Phenomena. Jun2015, Vol. 170 Issue 6, p510-518. 9p.
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 2020, Vol. 2265 Issue 1, p1-4, 4p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.