Zobrazeno 1 - 10
of 27
pro vyhledávání: '"Rangra, K. J."'
In the present work, HfO2 thin film (100nm) has been deposited by sputtering technique and annealed at various temperatures ranging from 400 to 1000\degree (in step of 200 \degree) in O2 ambient for 10 min. The samples have been characterized using X
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1509.01064
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Pandey, Shilpi, Bansal, Deepak, Panwar, Deepak, Shukla, Neha, Kumar, Arvind, Kothari, Prateek, Verma, Seema, Rangra, K. J.
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 2016, Vol. 1724 Issue 1, p1-4, 4p, 4 Diagrams
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 2016, Vol. 1724 Issue 1, p1-5, 5p, 5 Graphs
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 2016, Vol. 1724 Issue 1, p1-5, 5p, 4 Diagrams, 2 Graphs
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 2016, Vol. 1724 Issue 1, p1-6, 6p, 3 Diagrams, 2 Charts
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.