Zobrazeno 1 - 10
of 951
pro vyhledávání: '"Ralf, D."'
Autor:
Ralf D. Geckeler, Andreas Just, Michael Krause, Olaf Schnabel, Ian Lacey, Damon English, Valeriy V. Yashchuk
Publikováno v:
Journal of Synchrotron Radiation, Vol 31, Iss 4, Pp 670-680 (2024)
Deflectometric profilometers are used to precisely measure the form of beam shaping optics of synchrotrons and X-ray free-electron lasers. They often utilize autocollimators which measure slope by evaluating the displacement of a reticle image on a d
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/4d6fd33e1af3439b8a9b4ec9fdd5cdcb
Autor:
Guo, Baolin, Liu, Tiaotiao, Choi, Soonwook, Mao, Honghui, Wang, Wenting, Xi, Kaiwen, Jones, Carter, Hartley, Nolan D., Feng, Dayun, Chen, Qian, Liu, Yingying, Wimmer, Ralf D., Xie, Yuqiao, Zhao, Ningxia, Ou, Jianjun, Arias-Garcia, Mario A., Malhotra, Diya, Liu, Yang, Lee, Sihak, Pasqualoni, Samuel, Kast, Ryan J., Fleishman, Morgan, Halassa, Michael M., Wu, Shengxi, Fu, Zhanyan
Publikováno v:
In Cell Reports Medicine 21 May 2024 5(5)
Publikováno v:
In Materials Science & Engineering A February 2024 892
Autor:
Geckeler, Ralf D.1 (AUTHOR) ralf.geckeler@ptb.de, Just, Andreas1 (AUTHOR), Krause, Michael1 (AUTHOR), Schnabel, Olaf2 (AUTHOR), Lacey, Ian3 (AUTHOR), English, Damon4 (AUTHOR), Yashchuk, Valeriy V.3 (AUTHOR)
Publikováno v:
Journal of Synchrotron Radiation. Jul2024, Vol. 31 Issue 4, p670-680. 11p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Document the architecture of your software easily with this highly practical, open-source template.Key FeaturesGet to grips with leveraging the features of arc42 to create insightful documentsLearn the concepts of software architecture documentation
Autor:
Summers, Alexander J., Yin, Houshang, Fischer, Ralf D., Prorok, Barton C., Lou, Xiaoyuan, He, Q. Peter
Publikováno v:
In Journal of Manufacturing Processes 27 October 2023 104:138-149