Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Rainer Plontke"'
Autor:
Corinna Koepernik, Bernd Leibold, Rainer Plontke, Jason Plumhoff, Peter Voehringer, Joerg Butschke, Emmanuel Rausa, Mathias Irmscher, Dirk Beyer
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The combination of conductive topcoat ESPACER Z300 and positive tone CAR FEP171 was investigated in detail for the second level patterning of Alternating Aperture Phase Shift Masks (AAPSM) using e-beam lithography. Chrome load variations between 2 an
Autor:
Corinna Koepernik, Lutz Bettin, Armelle Vix, Bernd Leibold, Joerg Butschke, Dirk Beyer, Mathias Irmscher, Rainer Plontke, Peter Voehringer
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The aim is to apply e-beam lithography for second level imaging of Alternating Phase Shift Masks (altPSM) in the 65 nm node and below. Difficulties due to charging effects arise when exposing areas where the chromium absorber has been cleared away. I
Autor:
Dirk Beyer, Lutz Bettin, Corinna Koepernik, Joerg Butschke, Rainer Plontke, Armelle Vix, Bernd Leibold, Peter Voehringer, Mathias Irmscher
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
When e-beam lithography is applied for second level imaging of Alternating Phase Shift Masks charging effects on the cleared chrome absorber induces placement, overlay and pattern distortion of the second layer. The water soluble conductive to coat S
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.