Zobrazeno 1 - 10
of 16
pro vyhledávání: '"RF power control"'
Publikováno v:
IEEE Open Journal of Power Electronics, Vol 1, Pp 393-406 (2020)
Radio frequency (RF) power amplifiers are an integral part of many academic, medical, and industrial applications. For many of these applications, the RF power needs to quickly transition from one level to another. For switched-mode amplifiers, one w
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/87dcd80bb8664cb4838cc0d74cc5eff4
Publikováno v:
Materials, Vol 7, Iss 1, Pp 30-43 (2013)
Dielectric resonance effects and radio-frequency (RF) power deposition have become challenging issues for magnetic resonance imaging at ultrahigh-field (UHF) strengths. The use of transmit (Tx) coil arrays with independently-driven RF sources using a
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/9232f517a48a43fba47b14421196b872
Autor:
Goro Nomura, Takashi Mutoh, Shuji Kamio, Ryosuke Seki, Kenji Saito, Tetsuo Seki, Hiroshi Kasahara
Publikováno v:
Shuji Kamio, Hiroshi Kasahara, Tetsuo Seki, Kenji Saito, Ryosuke Seki, Goro Nomura, Takashi Mutoh, Feedback control of plasma density and heating power for steady state operation in LHD, Fusion Engineering and Design, Volume 101, 2015, pages 226-230.
For steady state operation, the feedback control of plasma density and heating power system was developed in the Large Helical Device (LHD). In order to achieve a record of the long pulse discharge, stable plasma density and heating power are needed.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Philippe Belenguer, Max Aeberhard, Thomas Nelis, Laurent Therese, Philippe Guillot, L. Rohr, Johann Michler
Publikováno v:
Analytical and Bioanalytical Chemistry
Analytical and Bioanalytical Chemistry, Springer Verlag, 2007, 389 (3), pp.763-767. ⟨10.1007/s00216-007-1509-3⟩
Analytical and Bioanalytical Chemistry, Springer Verlag, 2007, 389 (3), pp.763-767. ⟨10.1007/s00216-007-1509-3⟩
International audience; A method for determining plasma power in rf-GDOES is presented. It is based on an effective resistance located in the inductive coil of the impedance matching. The amount of electrical power consumed in the matching system dep
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::cc3d932ede3ef42b8e1af14d1cf79031
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02537428
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02537428
Autor:
Nelis, Thomas, Aeberhard, M., Rohr, L., Mischler, J., Guillot, P., Belenguer, Philippe, Thérèse, L.
A method for determining plasma power in rf-GDOES is presented. It is based on an effective resistance located in the inductive coil of the impedance matching. The amount of electrical power consumed in the matching system depends on the capacitive c
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______166::7fad9b3a0e215a29443ff09331f80f9c
https://hal.science/hal-03800358
https://hal.science/hal-03800358
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.