Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"R.L.F. Chong"'
Publikováno v:
Applied Physics A: Materials Science & Processing. 66:S1067-S1071
Publikováno v:
Applied Physics A. 66:1067-1071
Gex. The layers were grown on oxidised silicon substrates using a rapid thermal chemical vapour deposition (RTCVD) reactor. Microstructural characteristics (roughness and grain size) were measured and their dependence on germane content to the gas fl
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.