Zobrazeno 1 - 10
of 488
pro vyhledávání: '"R.E.I. Schropp"'
Autor:
S. Halindintwali, D. Knoesen, R. Swanepoel, B.A. Julies, C. Arendse, T. Muller, C.C. Theron, A. Gordijn, P.C.P. Bronsveld, J.K. Rath, R.E.I. Schropp
Publikováno v:
South African Journal of Science, Vol 105, Iss 7/8 (2010)
Nanostructured thin silicon-based films have been deposited using the hot-wire chemical vapour deposition (HWCVD) technique at the University of the Western Cape. A variety of techniques including optical and infrared spectroscopy, Raman scattering s
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/a9889f1a37cb4f45bf48e9afd7b12377
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
M. Zeman, R.E.I. Schropp
Thin-film silicon solar cell technology is one of the promising photovoltaic (PV) technologies for delivering low-cost solar electricity. Twelve percent of the accumulated 27.2 GW produced in 2010 was due to thin-film PV and a little less than half o
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::21850675729b2af2f52f7bea8a380c2c
https://doi.org/10.1016/b978-0-12-819727-1.00136-9
https://doi.org/10.1016/b978-0-12-819727-1.00136-9
Publikováno v:
MRS Proceedings. 1426:45-49
As an alternative to crystalline silicon or thin film solar cells on rigid glass substrates, we aim to fabricate amorphous silicon (a-Si)/nanocrystalline silicon (nc-Si) tandem thin film solar cells on cheap flexible substrates. We have chosen polyca
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Solar Energy Materials and Solar Cells. 93:680-683
The applicability of the very high frequency (VHF) plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique to the fabrication of solar cells in an n–i–p configuration at 100 °C substrate temperature is being investigated. Amorphous and micro
Publikováno v:
Journal of Non-Crystalline Solids. 354:2248-2252
Hot-wire chemical vapor deposition is employed for the deposition of amorphous and microcrystalline silicon layers at substrate temperature kept below 100 °C with the aid of active cooling of the substrate holder. The hydrogen dilution is varied in
Publikováno v:
Journal of Non-Crystalline Solids. 354:2652-2656
The dielectric functions of thin film silicon materials on glass were measured by spectroscopic ellipsometry (SE) and simulated by using the Tauc-Lorentz (TL) dispersion law, which provided information on disorder ( C ) and density ( A ). A VHF plasm