Zobrazeno 1 - 10
of 28
pro vyhledávání: '"R. Sobbia"'
Emission spectroscopy measurements on a plasma representative of Titan atmosphere composition were obtained in the Inductively Coupled Plasma wind tunnel facility (VKI-Minitorch) at the von Karman Institute in Belgium. Temperatures ranged from 3600 t
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::b408a837f50a0398d4bbd60692208ee0
http://doc.rero.ch/record/292189/files/S0022377812000888.pdf
http://doc.rero.ch/record/292189/files/S0022377812000888.pdf
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 26:103-113
A linked set of Monte Carlo applications has been developed in order to investigate the sputtering, deposition, and ionization processes in a circular direct current unbalanced magnetron discharge. Particles respond to prescribed electric and magneti
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::559ef1786bd06d8dfba8c1d0feb394de
https://doi.org/10.1116/1.2816940
https://doi.org/10.1116/1.2816940
Autor:
Jean-Loup Bertaux, G. Neukum, Harald Hoffmann, M. Lino da Silva, R. Sobbia, Pénélope Leyland, J. Diaz del Rio, Franck Montmessin, Aurélie Reberac, A. Christou, L. Marraffa, P. Schmitz, Olivier Witasse
Publikováno v:
CEAS Space Journal
CEAS Space Journal, 2014, 6 (1), pp.3-11. ⟨10.1007/s12567-013-0051-8⟩
CEAS Space Journal, Springer, 2014, 6 (1), pp.3-11. ⟨10.1007/s12567-013-0051-8⟩
CEAS Space Journal, 2014, 6 (1), pp.3-11. ⟨10.1007/s12567-013-0051-8⟩
CEAS Space Journal, Springer, 2014, 6 (1), pp.3-11. ⟨10.1007/s12567-013-0051-8⟩
International audience; NASA's PHOENIX spacecraft has successfully landed on Mars on 25 May 2008. ESA supported the event by recording signals from PHOENIX by the Mars EXPRESS spacecraft using its lander communication subsystem. Following numerical s
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::5821510f514d81c2f667cd1481402c2e
https://hal.science/hal-00908538
https://hal.science/hal-00908538
Publikováno v:
CIÊNCIAVITAE
Scopus-Elsevier
Scopus-Elsevier
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::91672c8e7a05ebbca08792b1d99d7482
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-78549264497&partnerID=MN8TOARS
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-78549264497&partnerID=MN8TOARS
Large area plasma-enhanced chemical vapor deposition of thin films such as silicon nitride or amorphous silicon is widely used for thin film transistor fabrication in the flat panel display industry. A numerical three-dimensional model to calculate t
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::3a9d9c1ae5e4ec523355a8672d7838b9
https://infoscience.epfl.ch/record/120178
https://infoscience.epfl.ch/record/120178
Plasma conditions for microcrystalline silicon deposition generally require a high flux of atomic hydrogen, relative to SiH alpha=0 -> 3 radicals, on the growing film. The necessary dominant partial pressure of hydrogen in the plasma is conventionall
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::3f45fdadb9e19bd84a0672c208cd3e48
https://infoscience.epfl.ch/record/164149
https://infoscience.epfl.ch/record/164149
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.