Zobrazeno 1 - 10
of 79
pro vyhledávání: '"R. Roucka"'
Publikováno v:
IEEE Photonics Journal, Vol 2, Iss 6, Pp 924-941 (2010)
We report new approaches based on rational design and preparation of chemical vapor deposition precursors involving novel main-group hydrides to fabricate new families of Si-based semiconductors and prototype devices that display compositional and st
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/355ec3225ff54bd6b7baeaf481037a49
Autor:
M. Patel, C. Madden, J. Frey, U. Krishnamoorthy, Michael Rust, Pavan Bhargava, N. Chan, Songtao Liu, R. Roucka, Forrest Sedgwick, Mark T. Wade, H. Eachempatti, Austin Katzin, Erik Anderson, F. Luna, Sidney Buchbinder, Chen Li, D. Van Orden, John M. Fini, M. Sysak, Manan Raval, L. Okada, Mason Zhang, Chandarasekaran Ramamurthy, Shahab Ardalan, Chong Zhang, Anatoly Khilo, Haiwei Lu, R. Zeng, Woorham Bae, Derek M. Kita, K. Robberson, E. Jan, Behrooz Beheshtian, P. Chao, Roy Meade, Daniel Jeong, K. Chang, Vladimir Stojanovic, Byungchae Kim, Chen Sun
Publikováno v:
OFC
We demonstrate 128 Gbps/port (8-λ × 16 Gbps/λ) natively error-free transmission across eight optical ports using a 8-port, 8-λ/port WDM remote laser source and a pair of monolithically integrated CMOS optical I/O chiplets with 4.96-5.56 pJ/bit op
Autor:
J. Tolle, R. Roucka, I. S. T. Tsong, C. Ritter, P. A. Crozier, A. V. G. Chizmeshya, J. Kouvetakis
Publikováno v:
Applied Physics Letters. 82:2398-2400
A semiconductor structure and fabrication method is provided for integrating wide bandgap nitrides with silicon. The structure includes a substrate, a single crystal buffer layer formed by epitaxy over the substrate and a group III nitride film forme
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
R. Roucka, V. R. D’Costa, Y.-J. An, M. Canonico, J. Kouvetakis, J. Menéndez, A. V. G. Chizmeshya
Publikováno v:
Chemistry of Materials; Jan2008, Vol. 20 Issue 4, p1431-1442, 12p
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.