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Effizientes chemisch-mechanisches Polieren (CMP)*/Efficient chemo-mechanical polishing - Greater efficiency by small amounts of well-elected and conditioned polishing suspension

Autor: R. Prof. Rascher, M. F. Prof. Zäh, Christian Trum

Publikováno v: wt Werkstattstechnik online. 108:174-179

Das chemo-mechanische Polieren spielt eine wichtige Rolle bei der Fertigung hochpräziser, optisch wirksamer Oberflächen. Die benötigte Poliersuspension wird meist zentral für alle Prozesse bereitgestellt und vorbereitet. So ist es nicht möglich,

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5e66fbf2a7ec016e3dcb2a1c938b3824
https://doi.org/10.37544/1436-4980-2018-03-70

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