Zobrazeno 1 - 10 of 30 pro vyhledávání: '"R. Machorro-Mejía"'
1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
2
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
3
Electrical properties and spectroscopic ellipsometry studies of covellite CuS thin films deposited from non ammoniacal chemical bath
Autor: R. Machorro-Mejía, R. Silva González, C. J. Diliegros-Godines, Mou Pal, D.I. Lombardero-Juarez
Publikováno v: Optical Materials. 91:147-154
In this paper, CuS thin films with good adherence and of different thickness in the range of 450–800 nm were prepared by chemical bath deposition method without using ammonia. The precursor solution was made by mixing copper (II) chloride, sodium t
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1a7fc79781e2c2f632e8168b29c0e0e4
https://doi.org/10.1016/j.optmat.2019.03.022
Zobrazit plný text záznamu
5
Plasma optical emission spectroscopy as a tool to monitor TiNx deposition via reactive magnetron sputtering
Autor: R. Sanginés, R. Machorro-Mejía, J. Cruz, I. Sierra-Cruz
Publikováno v: Materials Letters. 285:129043
It is proposed that the pursuit of optimal parameters for the synthesis of TiN thin films by reactive sputtering can be simplified by implementing plasma optical emission spectroscopy in real time. Emission from Ti and neutral and ionized species of
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c5f610dac04991029960d4c77b73cde9
https://doi.org/10.1016/j.matlet.2020.129043
Zobrazit plný text záznamu
7
Plasma emission spectroscopy and its relation to the refractive index of silicon nitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering
Autor: N Abundiz-Cisneros, O. Hernandez Utrera, C. J. Diliegros-Godines, R. Sanginés, R. Machorro-Mejía
Publikováno v: Journal of Physics D: Applied Physics. 51:095203
In this work, we present a thorough study on the relation between the plasma emission and the change of the silicon nitride thin films refractive index. Thin films were grown by reactive magnetron direct current sputtering technique and deposited ont
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1eb44420f47fe53e0f1239d65c7be206
https://doi.org/10.1088/1361-6463/aaa8d4
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Modelo del voltaje de descarga en depósitos de ZrO X por erosión iónica reactiva
Autor: V. García-Gradilla, G. Soto-Herrera, R. Machorro-Mejía, E. Mitrani-Abenchuchan
Publikováno v: Universidad Nacional Autónoma de México
UNAM
Redalyc-UNAM
Revista Mexicana de Física (México) Num.2 Vol.55
"Se presenta una aplicación del modelo de Berg para el depósito de películas delgadas de ZrO X por la técnica de erosión iónica reactiva. Se propone un tratamiento alternativo de dicho modelo, adaptándolo a un punto de vista ingenieril. El mod
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::11f6b01c19590b32a0dd70267f63b0c4
http://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57013231005
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje