Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"R. Legario"'
Autor:
Eric Lavallee, Hiroshi Nozue, Yousef Awad, Pan Yang, David Turcotte, Lau Kien Mun, Pierre Lafrance, R. Legario, Akira Yoshida, Melanie Cloutier, Jacques Beauvais, Dominique Drouin
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Masks for low energy electron proximity projection lithography (LEEPL) require thin membranes, which in turn make the development of low-distortion masks a critical issue for this technology. By using an evaporated resist, a flip side fabrication pro
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6be2c2f0e913d17c358e07e2a243a6df
https://doi.org/10.1117/12.535747
https://doi.org/10.1117/12.535747
Autor:
Prasad Kelkar, R. Legario, Pan Yang, M. Cloutier, D. Drouin, David Turcotte, E. Lavallee, J. Beauvais
Publikováno v:
Digest of Papers Microprocesses and Nanotechnology 2003. 2003 International Microprocesses and Nanotechnology Conference.
In this paper, the resist is evaporated using conventional thermal evaporation. Thickness as small as 20 nm have been demonstrated, with surface roughness as small as 4 nm rms.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fb3e7dcd2bfa5560f836d9536d6b8381
https://doi.org/10.1109/imnc.2003.1268621
https://doi.org/10.1109/imnc.2003.1268621
Autor:
Prasad Kelkar, Pan Yang, Lau Kien Mun, Eric Lavallee, Jacques Beauvais, Dominique Drouin, R. Legario, Yousef Awad, Melanie Cloutier, Vincent Aimez, David Turcotte
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 22:743
Semiconductor micro and nanofabrication lithography techniques for application in microelectronics as well as in micromechanics and optoelectronics can gain significantly from using a dry resist process, since it enables the deposition of a very unif
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::75c47ac1196eb24c58b0f78045387a50
https://doi.org/10.1116/1.1667503
https://doi.org/10.1116/1.1667503
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.