Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"R. Kuppa"'
Autor:
Z. Luo, H. Marchman, J. D. Byers, D. Soltz, Srinivas Vedula, Amir Azordegan, Gian Lorusso, Luca Grella, G. Storms, J. Varner, L. H. A. Leunissen, R. Kuppa
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
CD-SEM is currently poised as the primary method of choice for CD metrology because of its nanometer scale spatial resolution, superior precision, and relatively high throughput. However, issues still continue to emerge that can threaten the measurem
Autor:
Ivan Pollentier, Amir Azordegan, Rita Rooyackers, Malgorzata Jurczak, Hugo Bender, O. Richard, S. Cheng, Serge Biesemans, Bart Degroote, Nadine Collaert, R. Kuppa, S. Shirke, T. Long, M. Ercken, J. Prochazka, Gian Francesco Lorusso
Publikováno v:
ISSM 2005, IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing, 2005..
We describe a procedure to calibrate CD SEM to TEM for accuracy. This goal is achieved by using 4 CD reference standards in the range 10-70 nm. After calibration, the CD SEM demonstrated sensitivity to process variation down to 10 nm. The accuracy of
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.