Zobrazeno 1 - 10
of 38
pro vyhledávání: '"R. Koudijs"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
R. Koudijs, Linas R. Kilius, William E. Kieser, R.P. Beukens, John C. Rucklidge, A.E. Litherland
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 79:613-616
A new ion source and sample manipulation system for accelerator mass spectrometry has been designed at IsoTrace and a prototype has been built by High Voltage Engineering Europa B.V. The design incorporates remote Cs+ primary beam generation and rapi
Autor:
A. Cansell, P.L.F. Hemment, Chris Jeynes, R.J. Wilson, D.J.W. Mous, M. Ma, B.J. Sealy, R. Koudijs, K.G. Stephens, J.E. Mynard, M.D. Browton
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 74:27-31
A high energy heavy ion implantation system is described which is based upon a 2 MV High Voltage Engineering Europa Van de Graaff accelerator, which incorporates an ion source rapid exchange mechanism. The design and performance are described with pa
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 62:421-424
HVEE developed a range of tandem accelerators based on the General lonex Tandetron Line which was acquired in 1989. The range consists of a compact 1 MV terminal voltage “low current” Tandetron up to a 3 MV terminal voltage “high current” Tan
Publikováno v:
Review of Scientific Instruments. 62:2679-2683
We describe a new two‐dimensional detector for the detection of ions scattered from a solid target, analyzed in energy and scattering angle by a toroidal electrostatic analyzer. The detector resolves the scattering angle with a resolution of 0.4°
Autor:
G. F. A. van de Walle, K. Eich, B. Cleff, D.J.W. Mous, A. Hassenbürger, A. Gottdang, Jarig Politiek, W.H. Schulte, R. Koudijs
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 55:310-313
Recently an ion implanter for low-energy ion doping during molecular beam epitaxy has been developed. The unit consists of a dual source injection system operating at 30 kV extraction, a beam transport system and a deceleration stage, located in an u
Publikováno v:
Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on.
A new series of coaxial Tandetront tandem accelerators that meet today's requirements on new applications including new trends in device manufacturing has been designed, manufactured and tested by HVE. This new design includes a new high current all-
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.