Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"R. Kachmarik"'
Autor:
R. Chatterjee, B. Goolsby, V. Vartanian, D. Babbitt, David B. Graves, E.J. Tonnis, Rafael Reif, R. Kachmarik
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 17:483-490
Tailoring the chemical environment in plasmas by addition of reactive gases to affect byproduct formation has been demonstrated to reduce perfluorocompound (PFC) emissions. Perfluorocompound emissions from dielectric etch processes are reduced by oxy
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::2351b0601c5195c8b09b753109b208f1
https://doi.org/10.1109/tsm.2004.837004
https://doi.org/10.1109/tsm.2004.837004
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.