Zobrazeno 1 - 10
of 33
pro vyhledávání: '"R. Käsmaier"'
Autor:
Stefan Hirscher, M. Zeininger, A. Chylik, H. Buschbeck, R. Käsmaier, S. Eder, Gerhard Stengl, M. Kümmel, A. Chalupka, Hans Loschner, Oliver Kirch, Andreas Wolter, T. Windischbauer, E. Cekan, R. Nowak, C. Horner, Wolf-Dieter Domke
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :301-307
Ion projection lithography (IPL) uses electrostatic ion-optics for reduction printing of stencil mask patterns to wafer substrates. The IPL process development tool (PDT) prints field sizes of 12.5 mm×12.5 mm (wafer) at a demagnification factor of 4
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::389a87fab0fd1661ea1acfc80d97550b
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(02)00529-4
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(02)00529-4
Autor:
C. Schomburg, Christian Reuter, J. Mathuni, R. Käsmaier, Albrecht Ehrmann, Florian Letzkus, Jörg Butschke, Hans Loschner, Mathias Irmscher, Reinhard Springer, B. Höfflinger
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 46:473-476
A high yield fabrication process for stencil mask using SOI material is presented. Membranes and masks from different base materials have been fabricated. The stress of the membrane, depending on the doping level, has been determined. Initial pattern
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e45c4710852e7718bea13d709fd0edaa
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(99)00043-x
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(99)00043-x
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings.
We have designed and constructed a negative ion source for mass spectrometry and mass selective photodetachement photoelectron spectroscopy. The characteristics of the source are high anion densities and a large variety of accessible systems. Thus, m
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f0ac2790896afa9c09d969c53e18c70e
https://doi.org/10.1063/1.47536
https://doi.org/10.1063/1.47536
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings.
An apparatus for both, high resolution photodetachment ZEKE photoelektorn spectroscopy (PD‐ZEKE‐PES) and for conventional photodetachment time‐of‐flight photoelectorn spectroscopy (PD‐TOF‐PES) of mass‐selected negative ions is desscribe
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e908628c7f8570dd360c12e78d526e22
https://doi.org/10.1063/1.47535
https://doi.org/10.1063/1.47535
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.