Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"R. Burkova"'
Publikováno v:
Physica Status Solidi (a). 114:K131-K134
Etude des proprietes physique et electrique du silicium dope par implantation ionique au phosphore et recuit par illumination flash. Les couches implantees sont completement activees sans diffusion notable. En utilisant des couches fortement dopees,
Publikováno v:
MRS Proceedings. 27
Implantation damage in single crystal of CdS produced by 60 keV Bi+ and 45 keV Ne+ at 50 K and at 300 K has been studied. Measurements of Cd disorder and dechanneling behaviour have been made by means of RBS/channeling for He ions ranging in incident
Publikováno v:
physica status solidi (a). 92:K107-K108
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.