Chemical Reaction Engineering—II

Autor: HUGH M. HULBURT, P. SUNDERLAND, E. M. A. EL KANZI, MICHAEL L. BRISK, R. BÖHNERT, G. KAISER, E. MERZ, ROLAND H. HECK, JAMES WEI, JAMES R. KATZER, H. J. DIESNER, K. SCHUGERL, H. W. G. HEYNEN, H. S. VAN DER BAAN, UMESH R. HATTIKUDUR, GEORGE THODOS, J. ROBERT FOWLER, JAMES W. LACKSONEN, HARMIT S. LAMBA, MILORAD P. DUDUKOVIĆ, D. C. TIMM, J. W. RACHOW, M. F. NAGIEV, T. M. NAGIEV, J-B. WIJFFELS, J. VERLOOP, F. J. ZUIDERWEG, ALBERT H. GERMAIN, ANDRÉ G. LEFEBVRE, GUY A. L'HOMME, ROBERT G. WETHEROLD, EUGENE H. WISSLER, KENNETH B. BISCHOFF, S. VISWANATHAN, R. ARIS, PHANINDRA N. S ARMA, HENRY W. HAYNES, DAVID E. MEARS, EIICHI KOJIMA, TAKASHI AKEHATA, TAKASHI SHIRAI, HANS LIVBJERG, BENNY SORENSEN, JOHN VILLADSEN, MAROOF A. SHAH, DONALD ROBERTS, KUNIO KATO, HIRO ARAI, UTARO ITO, N. WAKAO, H. V. NGUYEN, O. E. POTTER, JOHANNES P. ROOS, R. A. AL-SAMADI, P. R. LUCKETT, W. J. THOMAS, WOLF-DIETER DECKWER, ENNO A. MAEHLMANN, ANDRÉ ZOULALIAN, JACQUES VILLERMAUX, THOMAS GORDON SMITH, JAMES J. CARBERRY, B. W. RITCHIE, A. H. TOBGY, HAGEN T. SPATH, KLAUS D. HANDEL, E. KIKUCHI