Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"R Veerabadra Chary"'
Publikováno v:
Materials Today: Proceedings. 4:10309-10314
SRAM cell stability is the primary concern for future technologies due to process variations like threshold voltage and supply voltage scaling etc. The increased effect of process variation and increase in parasitic resistance and capacitance in Nano
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5c67be1ffcabf5a8776beb633620ee36
https://doi.org/10.1016/j.matpr.2017.06.370
https://doi.org/10.1016/j.matpr.2017.06.370
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.