Zobrazeno 1 - 10
of 7 252
pro vyhledávání: '"Pulse pair"'
Autor:
Vogelsang, Jan, Wittenbecher, Lukas, Mikaelsson, Sara, Guo, Chen, Sytcevich, Ivan, Viotti, Anne-Lise, Arnold, Cord L., L'Huillier, Anne, Mikkelsen, Anders
Electrons photoemitted by extreme ultraviolet attosecond pulses derive spatially from the first few atomic surface layers and energetically from the valence band and highest atomic orbitals. As a result, it is possible to probe the emission dynamics
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2310.09666
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Jan Vogelsang, Lukas Wittenbecher, Sara Mikaelsson, Chen Guo, Ivan Sytcevich, Anne‐Lise Viotti, Cord L. Arnold, Anne L'Huillier, Anders Mikkelsen
Publikováno v:
Advanced Physics Research, Vol 3, Iss 3, Pp n/a-n/a (2024)
Abstract Electrons photoemitted by extreme ultraviolet attosecond pulses derive spatially from the first few atomic surface layers and energetically from the valence band and highest atomic orbitals. As a result, it is possible to probe the emission
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/1f0a58398eb445bbbeef7c849f3080ae
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Stodolna, Aneta S., Pinto, Tiago de Faria, Ali, Faisal, Bayerle, Alex, Kurilovich, Dmitry, Mathijssen, Jan, Hoekstra, Ronnie, Versolato, Oscar O., Eikema, Kjeld S. E., Witte, Stefan
The next generation of lithography machines uses extreme ultraviolet (EUV) light originating from laser-produced plasma (LPP) sources, where a small tin droplet is ionized by an intense laser pulse to emit the requested light at 13.5 nm. Numerous irr
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1804.01329
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Liu, Mengyuan1,2 (AUTHOR), Qi, Yaoyao1,2 (AUTHOR) qiyao@hebut.edu.cn, Yang, Song3 (AUTHOR), Bai, Zhenxu1,2 (AUTHOR), Yan, Bingzheng1,2 (AUTHOR), Ding, Jie1,2 (AUTHOR), Wang, Yulei1,2 (AUTHOR), Lu, Zhiwei1,2 (AUTHOR)
Publikováno v:
Applied Physics B: Lasers & Optics. Oct2022, Vol. 128 Issue 10, p1-11. 11p.