Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Pudnos, A."'
Autor:
Jochen Bender, C. Enkrich, A. Pudnos, Klaus-Dieter Roeth, L. Mackey, K.-H. Schmidt, P. Tran, M. Higuchi, D. Adam, F. Laske
Publikováno v:
Photomask Technology 2008.
Turn around time/cycle time is a key success criterion in the semiconductor photomask business. Therefore, global mask suppliers typically allocate work loads based on fab capability and utilization capacity. From a logistical point of view, the manu
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0359f45d3496631496bc204e59fda73a
https://doi.org/10.1117/12.802941
https://doi.org/10.1117/12.802941
Autor:
Laske, F., Pudnos, A., Mackey, L., Tran, P., Higuchi, M., Enkrich, C., Roeth, K.-D., Schmidt, K.-H., Adam, D., Bender, J.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p712230-712230-8, 8p
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.