Zobrazeno 1 - 10
of 40
pro vyhledávání: '"Process of qualification"'
Publikováno v:
mAbs, Vol 14, Iss 1 (2022)
As of early 2022, the coronavirus disease 2019 (COVID-19) pandemic remains a substantial global health concern. Different treatments for COVID-19, such as anti-COVID-19 neutralizing monoclonal antibodies (mAbs), have been developed under tight timeli
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/f6b90d57fb154df5a121da03dc249e1e
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Microelectronic Manufacturing, Vol 3, Iss 4 (2020)
Chip designers employ computer-aided design, circuit simulation, and design rule check systems. Lithography engineers employ model-based OPC (Optical Proximity Correction) and model-based print-simulation systems. Reticle inspection teams employ Aeri
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/522dc7e2b827493fa0209e082eed9783
Autor:
D.Choriyeva
Creativity is one of the most used and valued skills in the 21st century. It is important to develop creativity to achieve effective and high-level education. In the development of creative ability, the description of various subjects, didactic requi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::6dc4ac20eadfb6412e7cd1e8f5567413
Autor:
Mehfouz Jalal, Gregory A. Sacha, Ehab M. Moussa, Tong Zhu, Petr Kazarin, Sumit Luthra, Puneet Sharma, Joseph Azzarella, Ted Tharp, Akhilesh Bhambhani, Jayasree M. Srinivasan, Feroz Jameel, Alina Alexeenko, Lavanya K. Iyer, Serguei Tchessalov
Publikováno v:
AAPS PharmSciTech
This work describes the lyophilization process validation and consists of two parts. Part one (Part I: Process Design and Modeling) focuses on the process design and is described in the previous paper, while the current paper is devoted to process qu
Autor:
Khurram Zafar, Chenmin Hu, Abhishek Vikram, Anchor Semiconductor, Santa Clara, Usa, Geoffrey Ying
Publikováno v:
Journal of Microelectronic Manufacturing, Vol 3, Iss 4 (2020)
Chip designers employ computer-aided design, circuit simulation, and design rule check systems. Lithography engineers employ model-based OPC (Optical Proximity Correction) and model-based print-simulation systems. Reticle inspection teams employ Aeri
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Rivera Aguirre, Christian David, Flórez Genes, María Eugenia, Duque Quintero, Sandra Patricia
Publikováno v:
Repositorio UdeA
Universidad de Antioquia
instacron:Universidad de Antioquia
Universidad de Antioquia
instacron:Universidad de Antioquia
RESUMEN: Este artículo de investigación analiza la problemática de calificación de pérdida de capacidad laboral identificada a partir de la atención en el Consultorio de Seguridad Social Integral de la Universidad de Antioquia, específicamente
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::436a5fb8a7b4f425750a993d2f04bbdc
Autor:
Rivera Aguirre, Christian David, Flórez Genes, María Eugenia, Duque Quintero, Sandra Patricia
Publikováno v:
Revista CES Derecho, Volume: 6, Issue: 1, Pages: 110-94, Published: JAN 2015
Este artículo de investigación analiza la problemática de calificación de pérdida de capacidad laboral identificada a partir de la atención en el Consultorio de Seguridad Social Integral de la Universidad de Antioquia, específicamente en perso
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______618::eb0031c262a88c73441745c0b8dec035
http://www.scielo.org.co/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S2145-77192015000100008&lng=en&tlng=en
http://www.scielo.org.co/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S2145-77192015000100008&lng=en&tlng=en