Investigações sobre o processo de deposição de filmes em plasmas de organometálico

Autor: Cruz, Nilson Cristino da

Publikováno v: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP

Orientador: Mário Antônio Bica de Moraes Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin" Resumo: Filmes finos foram depositados por Polimerização a Plasma a partir de descargas de misturas de tetr

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::199bb9169bbf8f6250ec54cc70a439d4
https://doi.org/10.47749/t/unicamp.1995.104091

Implantação iônica em filmes finos depositados por PECVD

Autor: Rangel, Elidiane Cipriano

Publikováno v: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP

Orientador: Mário Antônio Bica de Moraes Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin Resumo: Neste trabalho, investigou-se a influência da implantação iônica sobre as propriedades de filmes finos de p

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::c9a60d0c32d362f4069849bbe699c2dd
https://doi.org/10.47749/t/unicamp.1999.184699

Characterization of PECVD a-C : H:Si:O:Cl films

Autor: Landers, Richard, 1946

Publikováno v: Repositório Institucional da Unicamp
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
instacron:UNICAMP
Repositório da Produção Científica e Intelectual da Unicamp

Thin films were produced by plasma enhanced chemical vapor deposition of tetramethylsilane, chloroform, and argon mixtures. The partial pressure of chloroform in the chamber feed, CCl, was varied from 0% to 40%. Amorphous hydrogenated carbon films al

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::955b43cbe7b9a93c3f3c000d14108c36

Filmes finos depositados pela técnica de implantação iônica por imersão em plasma e deposição (IIIPD), utilizando o monômero HMDSN e os gases argônio, hélio e nitrogênio

Autor: Kodaira, Felipe Vicente de Paula.

Orientador: Rogério Pinto Mota
Banca: Milton Eiji Kayama
Banca: Rodrigo Savio Pessoa
Filmes finos poliméricos depositados a plasma são de grande utilidade em diversas aplicações industriais e científicas, em áreas como eletrôni

Externí odkaz: http://hdl.handle.net/11449/137791

Caracterização de plasmas a partir do monômero digime através da espectrometria de massa : deposição polimérica

Autor: Moreira Júnior, Pedro William Paiva.

Orientador: Rogério Pinto Mota
Coorientador: Roberto Yzumi Honda
Banca: Emerson Ferreira de Lucena
Banca: Maurício Antonio Algatti
A espectrometria de massa é um diagnóstico que pode auxiliar na compreensão da cinética quím

Externí odkaz: http://hdl.handle.net/11449/123170